材料試作
赤外線イメージ炉Ⅰ・Ⅱ
主な用途
反射鏡と組み合わせた近赤外線ランプにより、試料の加熱、冷却を従来の電気抵抗炉に比べて急速に行うことができ、熱サイクル試験も可能です。
また、専用の温度制御器により、高精度な温度制御が可能です。
雰囲気中の評価も可能です。
主な仕様
加熱温度 | ~1200℃ |
---|---|
加熱方式 | 赤外線ランプ加熱 |
有効加熱範囲 | 約Φ15×L50 mm |
その他 | 強制冷却が可能 材料試験機に取付可能 |
反射鏡と組み合わせた近赤外線ランプにより、試料の加熱、冷却を従来の電気抵抗炉に比べて急速に行うことができ、熱サイクル試験も可能です。
また、専用の温度制御器により、高精度な温度制御が可能です。
雰囲気中の評価も可能です。
加熱温度 | ~1200℃ |
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加熱方式 | 赤外線ランプ加熱 |
有効加熱範囲 | 約Φ15×L50 mm |
その他 | 強制冷却が可能 材料試験機に取付可能 |